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极紫外光设备及防止极紫外光光源装置被污染的方法

摘要

本公开涉及极紫外光设备及防止极紫外光光源装置被污染的方法。一种极紫外光微影系统,包括极紫外光光源及极紫外光扫描器。微滴产生器在极紫外光光源中提供微滴流。气体屏障是配置以包围微滴流。当激光与流中的微滴反应时,制造极紫外光辐射及离子化粒子。气体屏障可减少传送离子化粒子至微滴捕捉器的污染。极紫外光光源的构件可用电压偏压,以排斥或吸引离子化粒子,进而减少来自于这些离子化粒子的污染。

著录项

  • 公开/公告号CN110412834B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201910227714.9

  • 申请日2019-03-25

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构72003 隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄艳

  • 地址 中国台湾新竹市

  • 入库时间 2022-08-23 12:28:32

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