使用气相传输的材料生长装置、生长方法以及检测装置

摘要

本发明公开了一种使用气相传输的材料生长装置，包括真空室和生长室，生长室置于真空室中，生长室包括出气道和至少两个内表面，两个内表面分别用于搁置所需的生长源料和衬底；生长源料至少包括上表面和和下表面，生长源料的上表面与衬底相对、而下表面则与生长室接触；衬底至少包括生长面和背面，衬底的背面与生长室接触、而生长面与生长源料相对，生长源料的上表面与衬底的生长面之间形成生长腔；其特征在于：生长源料的上表面、衬底的生长面、生长室和出气道设置成使得由生长源料产生的气流在衬底的生长面上流动时，与衬底的生长面平行。还公开了使用该生长装置形成材料的方法、以及料生长过程的检测装置。