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一种MoS2/WS2垂直异质结的制备方法

摘要

本发明公开了一种MoS2/WS2垂直异质结的制备方法,以WO3和硫粉作为前驱体,在SiO2/Si基底上制备大尺寸高质量的单层二硫化钨,利用Mo箔的电化学阳极氧化法制备多价态氧化钼箔(MoOx),在低压低温条件下,以氧化钼箔和硫粉为前驱体在二硫化钨表面生长二硫化钼,从而制备MoS2/WS2垂直异质结,这种方法可控性与可重复性高,对其他过渡金属硫化物异质结的制备具有重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN111349907B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门大学;

    申请/专利号CN202010101665.7

  • 发明设计人 曹阳;宋维英;

    申请日2020-02-19

  • 分类号C23C16/30(20060101);C23C16/44(20060101);C25D11/26(20060101);

  • 代理机构35204 厦门市首创君合专利事务所有限公司;

  • 代理人张松亭;游学明

  • 地址 361000 福建省厦门市思明南路422号

  • 入库时间 2022-08-23 12:15:37

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