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一种SOI功率开关的ESD保护器件

摘要

本发明涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种SOI功率开关的ESD保护器件,包括:P型衬底;P型衬底上的N型深阱;在N型深阱上依次排布的第一N阱、第一P阱、第二N阱、第二P阱、第三N阱,第二N阱的宽度范围为2‑8μm;第一P阱内包括第一P+注入区、第一N+注入区,在第一P阱和第二N阱之间横跨有第二P+注入区;第二P阱内包括第二N+注入区、第四P+注入区,在第二N阱和第二P阱之间横跨有第三P+注入区;第二N阱上有栅氧化层,栅氧化层的长度范围为0.25~6μm,第一P+注入区和第一N+注入区连接至阳极,第二N+注入区和第四P+注入区连接至阴极,提高了器件的维持电压,降低了器件的触发电压,提高了防护性能。

著录项

  • 公开/公告号CN109786374B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN201910010758.6

  • 申请日2019-01-07

  • 分类号H01L27/02(20060101);

  • 代理机构11302 北京华沛德权律师事务所;

  • 代理人房德权

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号

  • 入库时间 2022-08-23 12:07:38

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