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用于高生长速率外延腔室的热屏蔽环

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摘要

于此描述用于外延腔室的热屏蔽组件。所述热屏蔽组件具有热屏蔽构件及预热构件。热屏蔽构件设置于预热构件上。热屏蔽构件具有切口部分，所述切口部分暴露预热构件的一部分。预热构件具有凹陷部分以接收热屏蔽构件。

公开/公告号CN107636211B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-07-09

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申请/专利权人应用材料公司;
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申请/专利号CN201680023769.2
发明设计人大木慎一;青木裕司;森義信;
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申请日2016-05-25
分类号C30B25/14(20060101);C30B25/10(20060101);C30B25/12(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/324(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 12:06:44

1. 用于高生长速率外延腔室的热屏蔽环 [P] . 中国专利： CN107636211B . 2021.07.09
2. 用于高生长速率EPI腔室的热屏蔽环 [P] . 中国专利： CN107636211A . 2018-01-26
3. Heat Shield Ring for High Growth EPI Chambers [P] . 韩国专利： KR20180003641A . 2018-01-09

机译：用于高增长EPI腔室的热屏蔽环
4. Device for introducing gases into the chamber of an epitaxy reactor, reactor chamber including such a gas-introduction device, and use of such a chamber for producing semiconducting layers [P] . 法国专利： FR2661554A1 . 1991-10-31

机译：用于将气体引入外延反应器的腔室中的设备，包括这种气体引入设备的反应器腔室以及这种腔室用于产生半导体层的用途
5. Heating- or cooling device for cylindrically designed reactor tube, comprises heating- or cooling jacket surrounding the reactor tube and having first and second chambers, which are thermally separated from each other by third chamber [P] . 德国专利： DE102008047884A1 . 2010-04-15

机译：用于圆柱形设计的反应器管的加热或冷却装置，包括围绕反应器管并具有第一腔室和第二腔室的加热或冷却套，所述第一腔室和第二腔室通过第三腔室彼此热隔离。