University of South Carolina.;
机译:缺陷竞争外延的高纯度半绝缘4H-SiC外延层:控制硅空位
机译:使用GaAs起始衬底通过氢化物气相外延制备的Fe掺杂半绝缘GaN衬底
机译:无微管4H-SiC在4H-SiC {0 3(3)上方8}晶种和高纯度半绝缘6H-SiC上的晶体生长
机译:气相外延的高纯度GaAs层的生长
机译:通过氢化物气相外延形成氮化镓模板和独立衬底,用于III族氮化物器件的同质外延生长。
机译:通过分子束外延在Si(111)衬底上生长GaN纳米壁网络
机译:高纯半绝缘4H-siC外延层 缺陷 - 竞争外延
机译:GaN:Eu中断生长外延(IGE):薄膜生长和电致发光器件。