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公开/公告号CN109324408B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-01
原文格式PDF
申请/专利权人 佳能株式会社;
申请/专利号CN201810838315.1
发明设计人 崔长植;
申请日2018-07-27
分类号G02B26/08(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人杨小明
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 11:53:12
机译: 光学设备,投影光学系统,使用其的曝光装置以及制造物品的方法
机译: 投影光学系统以及具有该投影光学系统的投影曝光设备,其投影方法,其曝光方法以及使用该投影曝光设备制造装置的制造方法
机译: 光学设备,投影光学系统,曝光设备和制造物品的方法
机译:电子投影光学系统从可变轴浸没透镜到使用可变轴浸没透镜的投影减少曝光的演变
机译:用于新的照明减速投影型曝光设备的新型照明减少投影型曝光装置,用于进一步演进Lai“Polano” -
机译:尼康推出具有第七代至第八代多镜头投影光学系统的液晶曝光设备
机译:具有液晶投影仪的无掩模曝光装置的开发,用于制造微图形表面和微流体通道
机译:专用光学设备的光学微腔的设计,制造和表征。
机译:一种用于制造廉价幻灯片投影仪透明胶片的快速方法。
机译:使用0.3-Na mET投影光学系统在aLs上进行1次EUV微曝光
机译:用于将含纳米结构的材料附着到物体和相关物品的尖端上的方法和装置。