首页> 中国专利> 一种基于范德瓦尔斯异质结的太赫兹辐射源

一种基于范德瓦尔斯异质结的太赫兹辐射源

摘要

本发明公开了一种基于范德瓦尔斯异质结的太赫兹辐射源,包括二维材料薄膜与三维半导体材料所构成的范德瓦尔斯异质结、泵浦光源和电极;本发明通过使用二维材料薄膜如石墨烯或过渡金属硫族化合物与三维半导体材料构建范德瓦尔斯异质结,以增强半导体材料中的太赫兹辐射;本发明通过构建范德瓦尔斯异质结,在偏压的作用下有效提高了三维半导体表界面的太赫兹波产生强度,在未来集成化、一体化的太赫兹系统中有广泛的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN110416862B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北大学;

    申请/专利号CN201910525464.7

  • 申请日2019-06-18

  • 分类号H01S1/02(20060101);

  • 代理机构61216 西安恒泰知识产权代理事务所;

  • 代理人李婷;赵中霞

  • 地址 710069 陕西省西安市太白北路229号

  • 入库时间 2022-08-23 11:52:49

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号