一种用于湿法刻蚀的喷嘴、湿法刻蚀设备

摘要

本发明提供一种用于湿法刻蚀的喷嘴，喷嘴的进液口为桶状，所述进液口的开口端与刻蚀液体传输端连接，所述进液口的底面上设置有间隔排布的第一通孔；所述出液面上设置有间隔排布的第二通孔，所述第二通孔与第一通孔一一对应，所述第一通孔与第二通孔之间为连接管道，沿所述出液面的中轴线至两边方向上，所述连接管道与出液面的夹角依次减小。这样，使得从喷嘴中喷出的液体呈发射状，到达晶片表面的刻蚀液体的范围增大，尤其是在晶片边缘时，利于刻蚀液体的及时补充，保证晶片中心和晶片边缘的刻蚀率的一致性，从而，提高晶片的良率。