公开/公告号CN109689828B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-07
原文格式PDF
申请/专利权人 凯斯科技股份有限公司;
申请/专利号CN201780054508.1
申请日2017-06-21
分类号C09K3/14(20060101);C09G1/02(20060101);
代理机构11477 北京尚伦律师事务所;
代理人张俊国
地址 韩国京畿道安城市
入库时间 2022-08-23 11:45:26
机译: 抛光浆料,包括二氧化铈纳米粒子和用于使用相同抛光材料的方法
机译: 磨料颗粒分散体,用于包含相同成分的抛光组合套件,使用相同成分进行抛光的组合物的制造方法,用于抛光磁粉的基质的抛光组合物,抛光方法和制造方法
机译: 抛光组合物,其制备方法,使用该抛光组合物的抛光方法以及包括该相同成分的半导体基质的制造方法