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可逆相变电阻与晶体管合二为一的相变存储器单元及制备方法

摘要

本发明提供一种可逆相变电阻与晶体管合二为一的相变存储器单元及制备方法。主要利用相变材料的半导体特性,通过对相对稳定且易微细加工的可逆相变材料所具有的N型与P型特性制备出微米到纳米量级的小尺寸场效应晶体管,利用纳米加工技术,在晶体管的源、漏上制备10-100nm的引出电极,这样就可实现构成相变存储单元的1R1T(一个可逆相变电阻,一个场效应晶体管)在结构上的一体化与功能上的集成,可有效提高相变存储器的集成度。

著录项

  • 公开/公告号CN100440535C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200510026541.2

  • 申请日2005-06-08

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L27/105(20060101);H01L27/24(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/8239(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人潘振甦

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-12-03

    授权

    授权

  • 2006-03-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-01-18

    公开

    公开

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