公开/公告号CN100438047C
专利类型发明授权
公开/公告日2008-11-26
原文格式PDF
申请/专利权人 精工爱普生株式会社;
申请/专利号CN200510099599.X
申请日2005-09-14
分类号H01L27/12(20060101);H01L21/84(20060101);G02F1/136(20060101);G09F9/00(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人宋合成
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:01:17
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-01-09
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/12 变更前: 变更后: 登记生效日:20121206 申请日:20050914
专利申请权、专利权的转移
2012-05-09
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/12 变更前: 变更后: 登记生效日:20120328 申请日:20050914
专利申请权、专利权的转移
2008-11-26
授权
授权
2006-05-31
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-04-05
公开
公开
机译: 氮化物半导体基板,半导体层叠体,基板分选程序,基板数据输出程序,具有基板数据输出程序的氮化物半导体基板,偏角坐标图,具有偏角坐标图的氮化物半导体基板,半导体器件分选程序,氮化物,制造半导体叠层的方法,制造半导体器件的方法以及输出衬底数据的方法
机译: 氮化物半导体衬底,半导体层压材料,用于选择基板的程序,用于输出基板数据的程序,具有用于输出基板数据的程序的氮化物半导体衬底,具有离子坐标图的偏角坐标图,氮化物半导体衬底,用于选择半导体器件的程序,生产氮化物半导体衬底的方法,制造半导体层压材料的方法,制造半导体器件的方法,以及用于...的方法
机译: 用于半导体器件基板的清洁剂组合物,清洁半导体器件基板的方法,制造半导体器件基板的方法,以及半导体器件基板