用于屏障化学机械平面化的添加剂

摘要

本文提供了包含适合的化学添加剂的屏障化学机械平面化抛光组合物。适合的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。本文还提供了使用所述屏障化学机械平面化抛光组合物的化学机械抛光方法。