用于化学机械平面化工具的垫、化学机械平面化工具和相关方法

摘要

本申请案涉及用于化学机械平面化的工具的垫、化学机械平面化工具和相关方法。一种用于化学机械平面化的垫，其包括：材料，其具有主表面；及凹凸部，其从所述主表面延伸，所述凹凸部中的每一个的长度与宽度之间的比大于约2:1，且至少一些凹凸部的前导表面与所述主表面之间的夹角大于约90°。本发明还揭示相关垫，用于化学机械平面化的工具和相关方法。