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一种超衍射极限焦斑阵列生成装置

摘要

本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制,从而在样品面产生实心焦斑阵列;使淬灭光束或去交联光束经过相位调制,从而在样品面产生空心焦斑阵列,并使这两个焦斑阵列对准,最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列,所以生成的焦斑数量可以为任意多个,从而实现高通量的超分辨成像与激光直写,与已有的方法相比,本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。

著录项

  • 公开/公告号CN110568731B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;之江实验室;

    申请/专利号CN201910853722.4

  • 发明设计人 郝翔;刘鑫;匡翠方;刘旭;李海峰;

    申请日2019-09-10

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B21/00(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人刘静

  • 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 11:19:46

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