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一种气压调节装置、气压调节方法及晶圆刻蚀设备

摘要

本发明涉及一种气压调节装置,所述气压调节装置包括:承载结构、压力片、通气管、排气管、气缸、活塞及阀门;压力片与承载结构形成一中空结构,所述承载结构上安装所述通气管和所述排气管,所述通气管和所述排气管与所述中空结构相通,所述气缸安装在所述排气管上并与所述排气管相通,所述活塞设置在所述气缸内以控制所述气缸中的气压;所述阀门设置于通气管和排气管上。所述压力片与所述承载结构形成中空结构,使所述承载结构与所述压力片边缘密封接触;所述通气管和所述排气管使所述中空结构中气流通畅;所述活塞设置在所述气缸内,移动所述活塞调节气缸体积以调节所述中空结构中的气压,从而调节气压所产生的压力,使所述压力片气压平衡。

著录项

  • 公开/公告号CN108847382B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201810672246.1

  • 发明设计人 袁鹏华;

    申请日2018-06-26

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 11:17:15

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