激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法

摘要

一种激光辐照提高镧钡锰氧薄膜性能的方法，属功能薄膜领域。PLD制备的La_1-xBa_xMnO₃薄膜，TCR为4%，退火处理时间长，TCR值提高不明显。本发明步骤：将清洗干净的基片干燥后置于真空室内的硅板加热器上；保持5×10^-4Pa～2×10^-4Pa，700℃～850℃，氧气流动压5～80Pa，准分子激光轰击La_0.67Ba_0.33MnO₃靶材；沉积结束后降至室温；将制备的薄膜置于旋转平台上，以35～60W/cm²激光辐照10～120秒。激光辐照后，薄膜的转变温度提高至340K，TCR值提高至8.8%K^-1(307K)，成本降低，效率提高，有利于工业化生产；薄膜表面粗糙度降低。