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一种具有集成隧穿二极管的超结功率MOSFET

摘要

本发明涉及一种具有集成隧穿二极管的超结功率MOSFET,属于半导体功率器件领域。该MOSFET包括:漏端电极、N型衬底、N型掺杂区、绝缘层Ⅰ、P型掺杂区Ⅰ、P型掺杂区Ⅱ、N+掺杂区Ⅰ、P+掺杂区Ⅰ、栅氧化层、多晶硅栅、源端电极、P+掺杂区Ⅱ、N+掺杂区Ⅱ、绝缘层Ⅱ和浮空电极。本发明在不增加器件的比导通电阻以及漏电流的条件下,能够极大地降低器件的反向恢复电荷,并且不会增加工艺难度。

著录项

  • 公开/公告号CN110061057B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆大学;

    申请/专利号CN201910373014.0

  • 发明设计人 李平;郭经纬;林智;胡盛东;唐枋;

    申请日2019-05-06

  • 分类号

  • 代理机构北京同恒源知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵荣之

  • 地址 400044 重庆市沙坪坝区沙坪坝正街174号

  • 入库时间 2022-08-23 11:09:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    授权

    授权

  • 2019-08-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20190506

    实质审查的生效

  • 2019-07-26

    公开

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