法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-04
授权
授权
2017-12-26
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20120528
实质审查的生效
2017-12-01
公开
公开
机译: 电阻材料,形成电阻薄膜的溅射靶材,电阻薄膜和薄膜电阻器以及形成电阻薄膜的溅射靶材的制造方法和电阻薄膜的制造方法
机译: 用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材,用于制造磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材和用于形成磁性薄膜的镍铁合金溅射靶材
机译: 基于氧化锌的溅射靶材,制造基于氧化锌的溅射靶材的方法,以及具有通过制造基于氧化锌的溅射靶材的方法沉积的具有屏蔽层的薄膜晶体管