带透明导电膜基板的制造方法、带透明导电膜基板的制造装置、带透明导电膜基板以及太阳能电池

摘要

在本发明的带透明导电膜基板的制造方法中，准备基体，所述基体具有表面及背面，并且具有覆盖所述表面及所述背面中的至少一个面的a‑Si膜；在具有含氢工艺气体的成膜空间中，将所述基体及所述a‑Si膜的温度范围设定为70～220℃，对靶材施加溅射电压进行直流溅射，在所述a‑Si膜上形成透明导电膜。