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基于纳米银焊膏的SiC器件三维堆叠互连结构及制备方法

摘要

本发明提供了一种基于纳米银焊膏的SiC器件三维堆叠互连结构及制备方法,该互连结构包含纳米银焊膏和陶瓷板,用纳米银焊膏填充陶瓷板的通孔,烧结形成导电通路,进一步通过纳米银焊膏烧结,实现芯片电极的堆叠互连;陶瓷基板作为绝缘板以及垫高层,增加两芯片的距离,避免芯片间的边缘击穿效应;该互连结构的连接可实现多个芯片的纵向互连,且所选材料包含陶瓷基板和纳米银焊膏,纳米银焊膏烧结后主要成分为银,其导电性能与耐温性能与纯银相近,均为耐高温材料,可用于大功率芯片的互连;与其他封装形式相比,结构简单,可操作性强,且具有较普遍的适用性,是实现高温高压堆叠封装的简单有效方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-24

    授权

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  • 2018-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/538 申请日:20180412

    实质审查的生效

  • 2018-09-18

    公开

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