基于阴极喷头位置变化进行优化的晶圆旋转卡盘

摘要

本发明公开了一种基于阴极喷头位置变化进行优化的晶圆旋转卡盘，基于阴极喷头移动过程中的位置变化来调节抛光电流，达到抛光均匀的目的。其技术方案为：卡盘的半径大于晶圆的半径，卡盘超出晶圆的部分设置一圆环，卡盘中间形成晶圆片槽用于吸附晶圆，位于卡盘下方设有电源、阴极喷头和阳极喷头，其中阳极喷头的位置相对于晶圆是固定的，阴极喷头从晶圆中心沿着晶圆半径移动至晶圆外的圆环上，当阴极喷头移动到晶圆边缘时，阴极喷头与晶圆相交的面积随移动而减小，阴极喷头上的抛光电流对应减小。