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闪存单元、闪存单元的编程方法及闪存单元的擦除方法

摘要

本发明提供了一种闪存单元、闪存单元的编程方法及闪存单元的擦除方法,所述闪存单元包括形成有N阱的P型衬底和所述N阱上的栅极结构,所述栅极结构包括第一存储位和第二存储位,所述第一存储位和所述第二存储位共享一个字线栅,本发明提供的闪存单元编程功耗低,读取速度快,存储的状态更多。通过在闪存单元的控制栅施加正电压,在位线上施加负电压,从而达到编程的操作,本发明提供的闪存单元的编程方法可以选择编程的存储位,也可以对两个存储位同时进行编程。通过在字线栅上施加正电压,在两个存储位的控制栅上施加负电压,快速擦除信息,所述字线栅的结构产生增强型电子隧穿效应,使用较低的电压就可实现快速擦除的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN107342290B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201710553102.X

  • 发明设计人 徐涛;

    申请日2017-07-07

  • 分类号H01L27/11524(20170101);H01L27/11529(20170101);G11C16/14(20060101);G11C16/10(20060101);

  • 代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 10:54:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-10

    授权

    授权

  • 2017-12-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/11524 申请日:20170707

    实质审查的生效

  • 2017-12-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/11524 申请日:20170707

    实质审查的生效

  • 2017-11-10

    公开

    公开

  • 2017-11-10

    公开

    公开

  • 2017-11-10

    公开

    公开

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