首页> 中国专利> 用于补偿曝光过程中的曝光误差的方法

用于补偿曝光过程中的曝光误差的方法

摘要

一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法,光刻设备包括衬底台,该方法包括:获得剂量测量,剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量,其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量;以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-13

    授权

    授权

  • 2017-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20150424

    实质审查的生效

  • 2017-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150424

    实质审查的生效

  • 2017-02-22

    公开

    公开

  • 2017-02-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号