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用于半导体器件的边缘终止和对应的制造方法

摘要

描述垂直DMOSFET或IGBT的终止区(4),其中表面p环(10)与氧化物/多晶硅填充的沟槽(40)、掩埋p环(41)和可选的表面场板(11)组合,以便在终止区(4)中获得电势场线(7)的改进分布。表面环终止(10,11)和深环终止(41)的组合提供终止区(4)面积的明显减少。

著录项

  • 公开/公告号CN105814690B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ABB瑞士股份有限公司;

    申请/专利号CN201480068737.5

  • 申请日2014-12-03

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/78(20060101);H01L29/739(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/331(20060101);H01L29/40(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张金金;刘春元

  • 地址 瑞士巴登

  • 入库时间 2022-08-23 10:49:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    授权

    授权

  • 2018-06-05

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L29/06 登记生效日:20180516 变更前: 变更后: 申请日:20141203

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-06-05

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 29/06 登记生效日:20180516 变更前: 变更后: 申请日:20141203

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/06 申请日:20141203

    实质审查的生效

  • 2016-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/06 申请日:20141203

    实质审查的生效

  • 2016-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/06 申请日:20141203

    实质审查的生效

  • 2016-07-27

    公开

    公开

  • 2016-07-27

    公开

    公开

  • 2016-07-27

    公开

    公开

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