公开/公告号CN106810267B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-14
原文格式PDF
申请/专利权人 河北利福光电技术有限公司;
申请/专利号CN201710093194.8
申请日2017-02-21
分类号C04B35/584(20060101);C04B35/626(20060101);
代理机构13112 石家庄国域专利商标事务所有限公司;
代理人苏艳肃
地址 071000 河北省保定市腾飞路998号
入库时间 2022-08-23 10:48:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-14
授权
授权
2017-07-04
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/584 申请日:20170221
实质审查的生效
2017-07-04
实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/584 申请日:20170221
实质审查的生效
2017-06-09
公开
公开
2017-06-09
公开
公开
2017-06-09
公开
公开
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机译: 高纯锆或ha,该填充溅射靶和由此制备的薄膜,高纯锆或ha的制备方法以及高纯锆或ha的粉末的制造方法
机译: 一种高纯氮化硅的制备方法
机译: 一种生产超纯氮化硅/氮氧化物粉末的方法。