一种用于硅衬底抛光的抛光液及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于硅衬底抛光的抛光液及其制备方法，抛光液包括如下重量百分含量的组分：二氧化硅胶体10‑50％、有机碱0.1‑2％、氧化剂0.01‑0.5％、络合剂0.01‑0.2％，适量pH调节剂调节pH值在8.5‑11.5，余量为去离子水；其中，二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒粒径40‑150nm，比表面积与粒径存在如下关系：S/DS