液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道光刻腐蚀方法

摘要

一种液晶显示面板前段阵列制造工艺中的第一道光刻腐蚀方法，包括以下步骤：在玻璃基板上沉积Mo/AlNd或MoW/AlNd或MoW/Al双层金属层，接着以光致抗蚀剂定义出栅极以及字元线的图案，随后再分别以含氧/含氟(SiF₆/O₂)混合蚀刻气体以及氧气/含氯混合蚀刻气体，蚀刻出具有稍微倾斜侧壁的金属线条，通过(1)增加蚀刻均匀度；(2)拉大Mo与AlNd的蚀刻选择比；(3)提高制造工艺压力；(4)增加Mo蚀刻速率，加大与AlNd的蚀刻选择比，减少光致抗蚀剂灰化速率，使侦测上盖层Mo金属蚀刻终点得以704nm波长蚀刻终点侦测器执行。