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一种利用铜膜图形化制作纳米金刚石膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用铜膜图形化制作纳米金刚石膜的方法,包含如下步骤:首先,先后用无水乙醇和去离子水对硅衬底进行超声波清洗,然后用纳米金刚石微粉的乙醇悬浊液对硅衬底进行超声波预处理,干燥;将与纳米金刚石膜的形状、大小一致的模板放置在硅衬底表面;在未被模板覆盖的硅衬底区域镀铜膜;移除模板;放入真空腔体内,通入工作气体,利用等离子体化学气相沉积的方法,低温下在未覆盖铜膜的位置沉积纳米金刚石膜;真空冷却,去真空,利用浓硝酸和氢氟酸的混合溶液腐蚀铜膜和硅衬底得到图形化了的纳米金刚石膜。本发明可以简单、易操作的制备出表面平整光滑,机械强度高的图形化纳米金刚石膜。

著录项

  • 公开/公告号CN107400876B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉工程大学;

    申请/专利号CN201710639969.7

  • 发明设计人 马志斌;李艳春;任昱霖;

    申请日2017-07-31

  • 分类号

  • 代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人崔友明

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区雄楚大街693号

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    授权

    授权

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/27 申请日:20170731

    实质审查的生效

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/27 申请日:20170731

    实质审查的生效

  • 2017-11-28

    公开

    公开

  • 2017-11-28

    公开

    公开

  • 2017-11-28

    公开

    公开

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