原子层沉积一步制备具有超润滑作用的二硫化钼薄膜的方法及其产品和应用

摘要

本发明涉及原子层沉积一步制备具有超润滑作用的MoS₂薄膜的方法及其产品和应用。将Si基底经以下方式进行清洗：用乙醇、丙酮擦拭后，依次在丙酮、去离子水中超声振荡5‑10分钟，再用去离子水反复清洗后用氮气枪吹干后放入原子层沉积系统反应室内，采用Mo(CO)₆(六羰基钼)固体源和SH(CH₂)₂SH（乙二硫醇）液体源，采用原子层沉积一步制备具有优异润滑效果的MoS₂薄膜。本发明涉及的制备方法，无需进行额外的高温硫化过程；有效简化了整体制备过程，在未使用等离子等辅助工艺的条件下，获得了摩擦系数极低的MoS₂薄膜，易于实现大规模批量生产，具有重要的应用潜力。