防止晶圆正面和背面污染的光刻胶收集杯结构

摘要

本发明涉及半导体生产中的设备，具体地说是一种防止晶圆正面和背面污染的光刻胶收集杯结构。包括上杯和下杯，所述上杯的内壁上设有用于引导废液往下流的导流槽结构，所述下杯的上面边缘沿周向设有防止废液回流的防止回流结构。所述导流槽结构为分布在上杯内壁上、并沿内壁向下的多个沟槽。所述防止回流结构为在下杯的上面边缘设有的环形挡圈。本发明结构简单，应用在半导体生产的涂胶过程中，防止涂胶过程产生的废液污染晶圆的正面和背面，提高了晶圆涂胶生产的成品率。