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Wafer backside cleaning strategies for high-k/metal gate processing

机译：用于高k /金属栅极加工的晶圆背面清洁策略

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R. Vos; E. Kesters; S. Garaud; R. De Waele; K. Kenis; M. Lux; H. Kraus; J. Snow; D. Shamiryan; G. Catana; W. Deweerd; T. Schram; S. Degendt; P. Mertens;
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年度 2015
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