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用于EUV投射光刻的照明光学装置以及照明系统

摘要

本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置,所述照明光学装置用于照亮照明场,下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中。在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面分面反射镜(14)具有多个并排布置的分面(13),用于反射地叠加地导引朝向物场(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述镜面分面反射镜(14)布置为,使得各个分面(13)在镜面分面反射镜(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面分面反射镜(14)的相应各个分面(13)上的射击区域预设出用于物场(3)的场点的照明方向。照明光部分光束(9i)在各个分面(13)上的射击区域的边缘轮廓预设出物场(3)的场形状。每个分面(13)具有连续的静态反射面(15)。由此实现这样的照明光学装置,通过所述照明光学装置能够以相比现有技术减少的制造耗费实现镜面反射器。

著录项

  • 公开/公告号CN105706003B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN201480060611.3

  • 发明设计人 M.帕特拉;

    申请日2014-08-25

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人侯宇

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2022-08-23 10:36:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-28

    授权

    授权

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20140825

    实质审查的生效

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20140825

    实质审查的生效

  • 2016-06-22

    公开

    公开

  • 2016-06-22

    公开

    公开

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