公开/公告号CN105706003B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-06-28
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201480060611.3
发明设计人 M.帕特拉;
申请日2014-08-25
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人侯宇
地址 德国上科亨
入库时间 2022-08-23 10:36:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-28
授权
授权
2016-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20140825
实质审查的生效
2016-10-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20140825
实质审查的生效
2016-06-22
公开
公开
2016-06-22
公开
公开
机译: 照明系统和投射曝光设备包括照明光学系统,并且这种类型的用于EUV微光刻的照明光学系统
机译: 投射曝光设备和照明系统包括这种类型的照明光学系统和用于EUV微光刻的照明光学系统
机译: 用于光刻的Euv微照明光学系统,用于这种照明光学系统的EUV衰减器,以及具有这种照明光学系统的照明系统和投影曝光设备