一种两面对准的倒置曝光设备

摘要

本发明公开了一种两面对准的倒置曝光设备，属于直写曝光机技术领域。本发明的两面对准的倒置曝光设备，包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置；所述支撑结构下部为一箱体结构，曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内，所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方；所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构，所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方。本发明的装置能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位，不会对板造成永久性的破坏；设备简单，不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备，节约成本。