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一种气电协同的大面积纳米压印光刻方法

摘要

一种气电协同的大面积纳米压印光刻方法,采用柔性复合模具作为压印模板,柔性复合模具被气路划分了几个子区域。从一侧开始,边缘的一个子区域,伴随气路由真空向大气压的切换,在外加电场力的作用下,该子区域与衬底保形接触,并同时实现纳米级结构的完全填充;依次改变气路状态,子区域也依次与衬底接触,最终实现纳米结构转移,本发明尤其适用于晶圆级翘曲衬底,而且压印光刻机结构简单,不同种类压印胶适应性强,同时可满足大深宽比纳米结构的制造。

著录项

  • 公开/公告号CN105093824B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN201510547713.4

  • 发明设计人 邵金友;王春慧;田洪淼;李祥明;

    申请日2015-08-31

  • 分类号

  • 代理机构西安智大知识产权代理事务所;

  • 代理人贺建斌

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁路28号

  • 入库时间 2022-08-23 10:32:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-07

    授权

    授权

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20150831

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20150831

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    公开

    公开

  • 2015-11-25

    公开

    公开

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