法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-19
授权
授权
2016-09-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/772 申请日:20160420
实质审查的生效
2016-09-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/772 申请日:20160420
实质审查的生效
2016-08-17
公开
公开
2016-08-17
公开
公开
机译: 具有不均匀掺杂的垂直沟道的短栅隧穿场效应晶体管及其制造方法
机译: 具有非均匀掺杂垂直沟道的短栅隧穿场效应晶体管及其制造方法
机译: 场效应晶体管栅隧穿泄漏参数的测量方法和结构