公开/公告号CN105760604B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-01-18
原文格式PDF
申请/专利权人 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司;
申请/专利号CN201610093994.5
申请日2016-02-19
分类号
代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人吴世华
地址 201210 上海市浦东新区张江高斯路497号
入库时间 2022-08-23 10:24:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-18
授权
授权
2016-08-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160219
实质审查的生效
2016-08-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160219
实质审查的生效
2016-07-13
公开
公开
2016-07-13
公开
公开
机译: 计算辐射能的方法,计算邻近效应的方法,设计掩膜或掩模版图案的方法,带电粒子束曝光系统以及制造半导体器件的方法
机译: 使用预测性用户模型在个人设备上进行语言建模以及基于统计模型的用户行为模型
机译: 使用建模算法对子层的邻近效应进行建模的半导体器件的制造方法