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基于版图邻近效应的统计模型的建模方法

摘要

本发明提供了一种基于版图邻近效应的统计模型的建模方法,包括:建立MOS器件的基础模型;根据所要采用的LPE效应的种类,针对不同尺寸器件变换LPE效应对应的版图因子,生成对应的非标准版图;对上述各非标准版图器件进行Mapping测试,得到阈值电压和漏极电流的各测试值并计算其均值,基于均值建立由LPE效应带来的器件性能指标偏移的LPE模型;根据上述的Mapping测试得到的测试值,求取阈值电压和漏极电流的统计分布;根据所采用的LPE效应的种类,修正基础模型中阈值电压和迁移率参数及其bin参数的标准差参数,建立考虑LPE效应带来的器件性能波动的MOS器件统计模型。本发明针对不同的LPE效应可独立分析和建模,使模型拟合的过程清晰和快速。

著录项

  • 公开/公告号CN105760604B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610093994.5

  • 发明设计人 刘林林;郭奥;

    申请日2016-02-19

  • 分类号

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高斯路497号

  • 入库时间 2022-08-23 10:24:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    授权

    授权

  • 2016-08-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160219

    实质审查的生效

  • 2016-08-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160219

    实质审查的生效

  • 2016-07-13

    公开

    公开

  • 2016-07-13

    公开

    公开

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