一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法

摘要

本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法，其特征包括：(1)制备陶瓷抛光盘，(2)配置碱性抛光液，(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上，放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂，使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜，再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削，去除表面氧化层，从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀，硬度高，韧性强，磨削效率高，抛光速率快。采用碱性抛光液，能有效避免加工设备腐蚀，使得加工性能稳定，同时保证得到的氮化铝表面光洁度高，损伤低。