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用于减少高浓度外延工艺中的位错缺陷的方法和系统

摘要

提供了利用半导体材料的应力以改善器件性能的半导体器件,该半导体器件包括半导体结和半导体场效应晶体管。还描述了用于制作半导体结构的方法。提供了嵌入在半导体基底中的没有位错缺陷的外延生长的结构。该外延结构可延伸超出半导体基底的表面并终结于面状结构。该外延结构是使用在相邻层之间提供连续转换的多层生长工艺来形成的。

著录项

  • 公开/公告号CN105097554B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201510524163.4

  • 发明设计人 李润领;周海锋;

    申请日2015-08-24

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人徐伟

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    授权

    授权

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20150824

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/336 申请日:20150824

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    公开

    公开

  • 2015-11-25

    公开

    公开

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