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原位实时探测薄膜生长状况的光反射差装置和方法

摘要

本发明涉及原位实时探测薄膜生长状况的光反射差装置和方法,该装置包括:激光器输出光的前方安置起偏器,起偏器出射的偏振光经过前方的光路上安置~光偏振调制器,输出光路上安置一电光调制器件,经过调制的输出光入射外延室窗口后,入射到被探测的外延基片表面,经外延层膜表面反射后的光从外延室窗口输出,通过检偏器后输出到探测器,探测器、放大器和数据采集处理系统电联接。该装置独立于制膜系统外,不受制膜温度和气压等条件的限制。该方法能同时获得基频和倍频两路信号,可探测原胞层状外延生长的信息,具有应用面广、获取信息多、操作简便等特点,是用于监控薄膜层状外延生长和研究成膜机理的有力工具。

著录项

  • 公开/公告号CN1302310C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院物理研究所;

    申请/专利号CN03153938.6

  • 申请日2003-08-21

  • 分类号G02B27/28(20060101);H01S5/00(20060101);G02B5/30(20060101);G02F1/03(20060101);G01N21/21(20060101);

  • 代理机构11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人王凤华

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村南三街8号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-10-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 27/28 授权公告日:20070228 终止日期:20140821 申请日:20030821

    专利权的终止

  • 2007-02-28

    授权

    授权

  • 2005-04-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-23

    公开

    公开

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