用光反射差法原位监测薄膜外延生长

摘要

薄膜生长过程中,原位监测膜层的表面平整度对薄膜和超晶格的制备是至关重要的.监测通常用高能电子衍射(RHEED).但是这种设备在真空室压强高于10<'-5>Pa时就不能工作.我们发展了一种新的被称为光反射差的监测方法.这种方法具有高灵敏度,可以监测薄膜外延生长.而其优点是不需要真空环境.本文给出光反射差监测装置的结构和实验结果.