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图案形成方法以及用于该方法的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物

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本发明的图案形成方法包括：(i)形成包含光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有由以下所示的通式(I)表示的化合物(A)；能够通过酸的作用降低对包含有机溶剂的显影液的溶解度的树脂(P)；以及能够通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)；(ii)用光化射线或放射线照射所述膜；(iii)使用包含有机溶剂的显影液将用所述光化射线或放射线照射的所述膜显影。R

著录项

公开/公告号CN104380195B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-09-14

原文格式PDF
申请/专利权人富士胶片株式会社;
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申请/专利号CN201380032035.7
发明设计人片冈祥平;涉谷明规;后藤研由;松田知树;福原敏明;
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申请日2013-06-26
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人牛海军
地址日本国东京都
入库时间 2022-08-23 10:17:16

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-09-14

授权

授权
2015-03-25

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/004 申请日:20130626

实质审查的生效
2015-03-25

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20130626

实质审查的生效
2015-02-25

公开

公开
2015-02-25

公开

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相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 图案形成方法以及用于该方法的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物 [P] . 中国专利： CN104380195B . 2018.09.14
2. 图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜、用于制造电子器件的方法,以及电子器件 [P] . 中国专利： CN104508557A . 2015-04-08
3. A mask blank having an actinic radiation-sensitive or radiation-sensitive resin composition, an actinic radiation or radiation-sensitive film, a light-actinic radiation-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, and a manufacturing method of an electronic device [P] . 韩国专利： KR20180014012A . 2018-02-07

机译：具有光化放射线或放射线敏感性树脂组合物的掩模坯料，光化放射线或放射线敏感性膜，光光化放射线或放射线敏感性膜，图案形成方法以及电子设备的制造方法设备
4. A mask blank having an actinic radiation-sensitive or radiation-sensitive resin composition, an actinic radiation or radiation-sensitive film, a light-actinic radiation-sensitive or radiation-sensitive film, a pattern forming method, and a manufacturing method of an electronic device [P] . 韩国专利： KR20170108092A . 2017-09-26

机译：具有光化放射线或放射线敏感性树脂组合物的掩模坯料，光化放射线或放射线敏感性膜，光光化放射线或放射线敏感性膜，图案形成方法以及电子设备的制造方法设备
5. Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, compound, and method for producing compound [P] . 美国专利： US10526266B2 . 2020-01-07

机译：光化射线或放射线敏感性树脂组合物，光化射线或放射线敏感性膜，具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料，光掩模，图案形成方法，电子设备的制造方法，电子设备，化合物及其制备方法