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一种基于栅调制产生电流提取MOSFET衬底掺杂浓度的方法

摘要

本发明公开了一种基于栅调制产生电流提取MOSFET衬底掺杂浓度的方法,利用栅调制产生电流曲线对衬底掺杂敏感的特性,使用与被测器件尺寸相同的已知衬底掺杂的MOSFET作为比对器件,将被测的MOSFET器件进行测试I

著录项

  • 公开/公告号CN105895548B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安邮电大学;

    申请/专利号CN201610416377.4

  • 发明设计人 陈海峰;

    申请日2016-06-14

  • 分类号

  • 代理机构北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李静

  • 地址 710000 陕西省西安市长安南路563号

  • 入库时间 2022-08-23 10:16:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-07

    授权

    授权

  • 2016-11-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20160614

    实质审查的生效

  • 2016-11-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20160614

    实质审查的生效

  • 2016-08-24

    公开

    公开

  • 2016-08-24

    公开

    公开

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