掩模板及其制造方法、利用掩模板构图的方法

摘要

本发明提供一种掩模板及其制造方法、利用掩模板构图的方法。该掩模板包括：相对设置的第一基板和第二基板；位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层；形成于所述第一基板上的透明导电层，所述透明导电层与所述液晶层位于所述第一基板的同一侧；以不透明导电材料形成于所述第二基板上的掩模图案；与所述透明导电层及所述掩模图案相连的供压电路，用于向所述掩模图案与所述透明导电层之间提供预设的电压。本发明通过对液晶盒的下电极构图以形成掩模图案，利用液晶在电场中偏转的性质实现了掩模板不同区域内的透光率补偿，解决了不同线密度区域曝光剂量差别过大、曝光显影后尺寸无法控制的问题。