公开/公告号CN105238216B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-01
原文格式PDF
申请/专利权人 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司;
申请/专利号CN201510731815.1
申请日2015-10-30
分类号C09D163/00(20060101);C09D7/61(20180101);B32B33/00(20060101);
代理机构11283 北京润平知识产权代理有限公司;
代理人严政;李婉婉
地址 617000 四川省攀枝花市东区桃源街90号
入库时间 2022-08-23 10:11:04
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-01
授权
授权
2016-02-10
实质审查的生效 IPC(主分类):C09D163/00 申请日:20151030
实质审查的生效
2016-01-13
公开
公开
机译: 在基板上产生隔离薄膜的过程包括基板上硅原子层的原子沉积,基板上硅原子层上的氧原子层和基板上金属原子层的原子沉积,金属原子层上的氧原子层的原子沉积。
机译: 带隔离剂的胶粘剂层,其制备方法,带隔离剂的胶粘剂层的成膜膜,带隔离剂的胶粘剂层的成膜剂和图像显示装置
机译: 带隔离剂的胶粘剂层,其制备方法,带隔离剂的胶粘剂层的成膜膜,带隔离剂的胶粘剂层的成膜剂和图像显示装置