公开/公告号CN105719993B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-01
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201610114691.7
申请日2016-03-01
分类号H01L21/68(20060101);
代理机构31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人吴世华;陈慧弘
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2022-08-23 10:10:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-01
授权
授权
2016-07-27
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/68 申请日:20160301
实质审查的生效
2016-06-29
公开
公开
机译: 控制扫描电子显微镜的维恩滤波器的方法和包含电子束校正功能的扫描电子显微镜,其能够校正电子束的形状变形
机译: 半导体晶圆加工研磨,一种电子元件的组装方法,包括处理晶圆,直到晶圆比转子板薄,厚度比层厚为止,并在晶圆上排上凹口以保护晶圆
机译: 晶圆支持部件,一种用于制造晶圆的相同方法和晶圆抛光单元的方法,能够应用于晶圆的最终抛光工艺