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无接触区形成于存储单元区的分栅快闪存储单元阵列结构

摘要

一种无接触区形成于存储单元区的分栅快闪存储单元阵列结构,形成于半导体基板之上,其至少包含:多个隔离区块,以阵列排列方式形成于该半导体基板上;多个快闪存储单元,每一该快闪存储单元包含浮置栅极,以阵列排列方式形成于该半导体基板上,且位于该多个隔离区块以外的有源区上,而构成多列快闪存储单元,每列快闪存储单元共用一控制栅极线;多个纵行扩散区形成于该隔离区块纵行之间的半导体基板内,且与上述每列快闪存储单元的控制栅极线相会;因此,经由指定列的控制栅极及指定行扩散区可分别指定一存储单元,以进行对该被指定的存储单元编程,或读取资料;上述存储单元的接触形成于存储单元区以外的半导体基板内。

著录项

  • 公开/公告号CN1278426C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-10-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN02105861.X

  • 发明设计人 林建炜;卓静玟;何大椿;

    申请日2002-04-11

  • 分类号

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李强

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-10-04

    授权

    授权

  • 2003-12-31

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-10-22

    公开

    公开

  • 2002-07-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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