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激光诱导等离子体法在石英基片上制作微型通道的技术

摘要

本发明是一种微型通道的制作技术,利用在调Q的Nd:YAG激光在石英基片上作微加工时伴随产生的激光诱导等离子体作为钻孔工具,在石英基片上制作微型通道。首先将激光束聚焦于石英基片的出光面,对光能吸收点作预处理,然后以此预处理点作为吸收光点开始激光钻孔,利用石英等离子体的高能高热局部融化并蒸发基片材料,按一定速率不断调整激光的聚焦面,可以保持石英等离子体的产生,从而可向深度方向不断融化并蒸发基片材料,形成微型通道。微型通道的直径从40微米至140微米可控制,截面基本上为圆形,管壁光滑(粗糙度优于0.2μm),长度大于4mm。该微型通道可构成微型流体系统用于多种生物医学分析用途。

著录项

  • 公开/公告号CN1268467C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 贵州大学;

    申请/专利号CN03135529.3

  • 发明设计人 秦水介;李文荣;

    申请日2003-07-30

  • 分类号

  • 代理机构贵阳东圣专利商标事务有限公司;

  • 代理人徐逸心

  • 地址 550025 贵州省贵阳市花溪区贵州大学北区科研处

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B23K 26/00 授权公告日:20060809 终止日期:20120730 申请日:20030730

    专利权的终止

  • 2006-08-09

    授权

    授权

  • 2005-04-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-16

    公开

    公开

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