一种孪生对靶磁控溅射制备覆铜陶瓷基板的装置及方法

摘要

本发明提供一种孪生对靶磁控溅射制备覆铜陶瓷基板的装置及方法，所述装置包括：溅镀真空室，一侧形成容置腔；孪生对靶，包括金属圆柱靶和铜合金圆柱靶；两灭弧罩，分别可旋转地绕设于金属圆柱靶和铜合金圆柱靶外周；两气管，分别位于金属圆柱靶和铜合金圆柱靶外侧；一阳极线性离子源，与金属圆柱靶和铜合金圆柱靶形成三角形排布，金属等离子体、铜合金等离子体及氩气等离子体或氩气与氧气混合等离子体交汇形成一等离子体交汇区；一氧化铝陶瓷基片，架设于等离子体交汇区内；一补偿气体气管。所述方法过渡层及金属层与陶瓷基板附着力强，原料成本及生产成本低，且制备方法保护环境，可有效减少环境污染。