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目录
第1章 绪论
1.1 课题背景及研究目的和意义
1.2氧化铝基本性质
1.3氧化铝薄膜制备方法
1.4 氧化铝薄膜磁控溅射研究现状
1.5 本文研究内容
第2章 试验材料、设备及方法
2.1试验材料
2.2试验设备
2.3 试验方法
2.4 分析测试方法
第3章 孪生Al靶高功率脉冲反应磁控溅射等离子体及放电特性分析
3.1孪生靶高功率脉冲磁控溅射技术
3.2 孪生靶高功率脉冲磁控溅射放电特性分析
3.3孪生靶高功率脉冲反应磁控溅射等离子体分析
3.4 本章小结
第4章 孪生靶高功率脉冲磁控溅射制备氧化铝薄膜工艺研究
4.1 孪生靶溅射沉积Al2O3薄膜工艺
4.2 表面形貌分析
4.3 沉积速率分析
4.4 晶体结构分析
4.5 本章小结
第5章 孪生靶高功率脉冲反应磁控溅射Al2O3薄膜性能研究
5.1 膜基结合力研究
5.2 纳米硬度研究
5.3 弹性模量研究
5.4 本章小结
结论
参考文献
声明
致谢